来源：共同网
共同社6月24日电 日本特许厅和中国国家知识产权局24日在东京召开了有关专利审判的首次专家会议。近年来在中国申请专利的日本企业增加，此次会议旨在让日本产业界深入了解日中之间的制度差异，以便能妥善应对在中国遭遇的知识产权纠纷。
专利审判是指申请专利未能通过审查时可以提出申诉的制度。在获得认定的专利被竞争对手企业提出异议要求判定无效的情况下，也会进行审判。
如果要通过审判对已获认定的专利进行更正，中方的更正条件较日方更加严格。诸如此类的差异广泛存在于制度内容和操作层面。此次会议旨在让两国共享相关信息。
专家会议为期两天。所梳理出的制度差异将在网上公布，向企业的知识产权管理者广而告之。
